一篇發(fā)表在《表面與鍍層技術(shù)》(SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY)雜志上的文章中稱，俄羅斯國立核能研究大學(xué)—莫斯科工程物理學(xué)院的科學(xué)家們研制出了能在熔融材料的蒸汽中產(chǎn)生強電流脈沖磁控放電的等離子發(fā)生器。用此新技術(shù)可以更快地噴涂在高科技領(lǐng)域中需要的薄膜，而且是在保持高質(zhì)量水準(zhǔn)的情況下。

世界上，磁控濺射法占據(jù)了生產(chǎn)適用于電子、機械、建筑和其他方面的金屬及介電涂層市場上的很大一部分份額。該方法是對被加工的零件涂上借助等離子、通過特別靶標(biāo)噴出的材料。目前，磁控濺射鍍膜是在高技術(shù)領(lǐng)域中生產(chǎn)薄膜的最常見的方式。

磁控濺射是對使用節(jié)能涂層材料的建筑物玻璃進行沉淀(可有各種顏色)的唯一方法。磁控可將能顯著提高性能的硬涂層噴射到切割工具上，比如用氮化鈦代替黃金，涂在教堂的圓頂上。在微電子學(xué)中，這種辦法被用于集成電路板的金屬化;在光學(xué)中，可用來生產(chǎn)濾光器;此外也可用來生產(chǎn)疏水涂層。

上世紀(jì)80年代末，在莫斯科工程學(xué)院在強電流脈沖磁控放電中的發(fā)現(xiàn)是對該領(lǐng)域研究的重大推動。本世紀(jì)的前10年，歐洲和美國在此基礎(chǔ)上推行高功率脈沖磁控濺射技術(shù)(HiPIMS)。脈沖磁控的主要研究動機和應(yīng)用是獲得用任何其他裝置和方法都無法做出的特性涂料。

莫斯科工程物理學(xué)院的科學(xué)家們研制出了能在熔融材料的蒸汽中產(chǎn)生強電流脈沖磁控放電的等離子發(fā)生器。熔融材料被涂在被加工的零件上，生產(chǎn)出來的設(shè)備由等離子接頭和電源組成，在特殊的磁控放電模式下工作。在這些模式下，與濺射一起發(fā)生熔融材料的強烈蒸汽作用，以此形成涂料。

莫斯科工程物理學(xué)院等離子物理教研室的科學(xué)研究員亞歷山大•杜馬爾金稱：“例如，長期以來，零件上的薄膜慢速增長與真空蒸發(fā)相比，一直都是磁控濺射、包括高功率脈沖磁控濺射技術(shù)的問題。反過來看，用真空蒸發(fā)獲得的涂料從質(zhì)量上也比磁控的差很多。因此，工業(yè)人士一直都面臨這樣的困境：是要企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量還是要產(chǎn)量。在被生產(chǎn)的用于研究帶陰極的脈沖磁控放電設(shè)備中，我們成功地將兩種技術(shù)的優(yōu)點合二為一，已經(jīng)能夠在保證質(zhì)量情況下的高速濺射。”

據(jù)科學(xué)家介紹，獲取的設(shè)備模式以及進行診斷的結(jié)果表明，熔融靶標(biāo)的強電流噴鍍擁有巨大的技術(shù)潛力?，F(xiàn)在專家們正致力于計劃在未來被投入生產(chǎn)的裝置的工業(yè)樣品工作。

莫斯科工程物理學(xué)院等離子物理教研室的科學(xué)研究員安德烈•卡奇耶夫稱：“設(shè)備的工業(yè)樣品和用于生產(chǎn)高質(zhì)量單獨涂層的模塊一樣，可作為工業(yè)和實驗室裝置中的等離子發(fā)生器使用，我們的潛在客戶是生產(chǎn)節(jié)能窗、現(xiàn)代能源組件以及各型材機械制造的企業(yè)。”